光刻中常见的效应和概念

1、驻波效应(Standing Wave Effect)             

    现象:在光刻胶曝光的过程中,透射光与反射光(在基底或者表面)之间会发生干涉。这种相同频率的光波之间的干涉,在光刻胶的曝光区域内出现相长相消的条纹。光刻胶在显影后,在侧壁会产生波浪状的不平整。

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OPC Mask(光学临近修正掩膜)

今天做用台积0.16um工艺的一个项目Ejob View时发现有些图形会在结尾处的两个直角顶点加两个小小的图形,突然就想起来上学时学MEMS相关课程时做过的一个硅悬臂梁腐蚀的实验,正常的直角腐蚀完后会变成有损缺的圆角,而在相应的位置加上修正图形,便可得到更理想的图形,网上找了个图形,可能看不太清,将就一下

OPC,为英文Optical Proximity Correction简称,翻译成中文为光学临近修正。

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