CMOS制作步骤（六）：源/漏注入工艺 2012/10/62011/8/9 作者 admin 在侧墙形成后，需要进行的就是源/漏注入工艺。先要进行的是n+源/漏注入，光刻出n型晶体管区域后，进行中等剂量的 … 阅读更多
